NAGASE's Lift-off photoresists that develop

Unique and
Special shapes

are available.

NAGASE's Lift-off Process
SCROLL

NAGASE’s Lift-off Resist

弊社ではリフトオフプロセスに対応した特徴的なフォトレジスト（感光性材料）を開発しています。

単層ポジ型レジストをはじめ、細線化に対応した２層型の各層レジストも取り揃えております。

2層型は業界汎用品に比べ、低温ベークにより容易なサイドエッチングのコントロールを実現。

お客様の個別のニーズ、細かなご要望にあわせた材料開発もご相談を承ります。

  • g~i線露光

    g~i線露光

  • 容易な形状のコントロール

    容易な形状のコントロール

  • 容易に剥離可能

    容易に剥離可能

READ MORE

製品情報

用途

  • Market

    Market

  • Device

    Device

  • Method

    Method

READ MORE

サービス

少量サンプル～大量生産までご相談にお応え応致します。

粘度調整や形状コントロールもご相談ください。

長年の電子業界での経験を活かし、様々なニーズにお応え致します。

READ MORE

Nagase ChemteXについて

素材の特性を引き出す化学の力と、
それを支えるテクノロジーで新たな価値を創造する。

それが私たちナガセケムテックスです。

READ MORE